8月29日消息（郭睿琦）在9月份量產(chǎn)3nm工藝之后，臺積電下一代的工藝也已經(jīng)在路上了，2nm工藝未來兩年中將接替3nm工藝，這一代工藝也會放棄FinFET晶體管，跟三星、Intel一樣走向GAA環(huán)繞柵極晶體管技術。臺積電在6月份正式公布了2nm工藝，并透露了一些技術細節(jié)，相比3nm工藝，在相同功耗下，2nm速度快10~15%；相同速度下，功耗降低25~30%。
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