臺積電2022年資本開支超400億美元 3nm工藝下半年量產(chǎn)

1月14日消息（南山）昨日下午，晶圓代工龍頭臺積電舉辦法人說明會。

臺積電在法人說明會上透露，公司今年資本開支在400億美元~440億美元之間，繼續(xù)保持高速增長。2021年，臺積電資本開支約300億美元，2019年時為149億美元。

這一數(shù)字傲視全球。三星、英特爾資本開支雖然創(chuàng)下新高，但只有280億美元和250億美元，均遠低于臺積電。中國大陸的中芯國際，資本開支甚至出現(xiàn)下滑。此前據(jù)臺灣工研院的調(diào)查，中芯國際2021年資本支出為43億美元，相比2020年的57億美元大幅下降24%，是全球主要晶圓廠中唯一減少資本開支的廠商。

據(jù)悉，臺積電資本開支主要用于2nm等先進工藝的投資，此外還有光罩等先進封裝，以及對特殊工藝的投資。

2021年，臺積電7nm營收占比為31%，5nm營收占比為19%。先進工藝的營收占比已經(jīng)達到50%。

據(jù)悉，臺積電將在今年下半年量產(chǎn)3nm工藝，并在2023年量產(chǎn)3nm家族的N3E工藝。臺積電總裁魏哲家表示，3nm客戶“比預(yù)期多”。

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