國產(chǎn)光刻機(jī)取得重大進(jìn)展 氟化氬光刻機(jī)套刻≤8nm

9月15日消息，從工業(yè)和信息化部在官網(wǎng)公布的《首臺(tái)（套）重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄（2024年版）》來看，國產(chǎn)光刻機(jī)已取得重大突破，氟化氬光刻機(jī)套刻≤8nm。

在《首臺(tái)（套）重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄（2024年版）》中，也公布了氟化氬光刻機(jī)其他的核心技術(shù)指標(biāo)，晶圓直徑300mm，照明波長193nm，分辨率≤65nm。

此外，《首臺(tái)（套）重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄（2024年版）》中還有氟化氪光刻機(jī)，晶圓直徑300mm，照明波長248nm，分辨率≤110nm，套刻≤25nm。

除了光刻機(jī)，工信部在印發(fā)的《首臺(tái)（套）重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄（2024年版）》中，還有多類集成電路生產(chǎn)裝備，包括硅外延爐、濕法清洗機(jī)、氧化爐、涂膠顯影機(jī)、高能離子注入機(jī)、低能離子注入機(jī)、等離子干法刻蝕機(jī)、特種金屬膜層刻蝕機(jī)、化學(xué)氣相沉積裝備、物理氣相沉積裝備、化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)、激光退火裝備、光學(xué)線寬量測裝備。

光刻機(jī)、刻蝕機(jī)等芯片生產(chǎn)關(guān)鍵設(shè)備取得突破，也就意味著我國芯片制造商在關(guān)鍵設(shè)備上有了更先進(jìn)的國產(chǎn)設(shè)備可用，有利于芯片產(chǎn)業(yè)鏈的國產(chǎn)化，也將提升國產(chǎn)芯片的水平，保障供應(yīng)。

工信部在官網(wǎng)公布的《首臺(tái)（套）重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄（2024年版）》，包括15大類重大技術(shù)裝備，除了長期困擾我國芯片產(chǎn)業(yè)的光刻機(jī)，還有高端工業(yè)母機(jī)、高端醫(yī)療裝備、精密儀器儀表等。（海藍(lán)）

生成海報(bào)

免責(zé)聲明：本網(wǎng)站內(nèi)容主要來自原創(chuàng)、合作伙伴供稿和第三方自媒體作者投稿，凡在本網(wǎng)站出現(xiàn)的信息，均僅供參考。本網(wǎng)站將盡力確保所提供信息的準(zhǔn)確性及可靠性，但不保證有關(guān)資料的準(zhǔn)確性及可靠性，讀者在使用前請進(jìn)一步核實(shí)，并對(duì)任何自主決定的行為負(fù)責(zé)。本網(wǎng)站對(duì)有關(guān)資料所引致的錯(cuò)誤、不確或遺漏，概不負(fù)任何法律責(zé)任。任何單位或個(gè)人認(rèn)為本網(wǎng)站中的網(wǎng)頁或鏈接內(nèi)容可能涉嫌侵犯其知識(shí)產(chǎn)權(quán)或存在不實(shí)內(nèi)容時(shí)，應(yīng)及時(shí)向本網(wǎng)站提出書面權(quán)利通知或不實(shí)情況說明，并提供身份證明、權(quán)屬證明及詳細(xì)侵權(quán)或不實(shí)情況證明。本網(wǎng)站在收到上述法律文件后，將會(huì)依法盡快聯(lián)系相關(guān)文章源頭核實(shí)，溝通刪除相關(guān)內(nèi)容或斷開相關(guān)鏈接。