荷蘭和日本后悔莫及，兩年時間中國芯片的設(shè)備自給率提升一倍

日前芯片行業(yè)的分析機構(gòu)ICInsight公布了一項數(shù)據(jù)，指出中國的芯片設(shè)備自給率大幅提升，兩年時間就提升了一倍，對海外芯片設(shè)備的需求量大減，這對于荷蘭和日本兩個主要的芯片設(shè)備出口國無疑是重錘一擊。

荷蘭是光刻機出口強國，它的ASML為全球最大的光刻機企業(yè)，占有全球光刻機市場近六成的市場份額，技術(shù)也最先進，為唯一可以生產(chǎn)EUV光刻機的企業(yè)，ASML也是荷蘭最大的出口企業(yè)。

EUV光刻機雖然為ASML帶來豐厚的利潤，不過DUV光刻機其實才是ASML的大頭，ASML計劃將EUV光刻機的產(chǎn)能提升至90臺，而DUV光刻機的產(chǎn)能則是計劃提升至600臺，可見DUV光刻機對ASML來說依然非常重要。

日本則是僅次于荷蘭的光刻機出口強國，尼康和佳能是僅次于ASML的光刻機企業(yè)，它們合計占有全球光刻機市場近四成的四成份額，不過它們的光刻機技術(shù)已落后于ASML，主要是生產(chǎn)用于10納米及以上工藝的光刻機。

日本還是全球重要的芯片設(shè)備和芯片材料出口國，光刻膠等材料占全球市場近六成的市場份額。中國市場對日本和荷蘭的芯片設(shè)備和材料相當(dāng)重要，中國市場是全球增長最快的芯片設(shè)備和材料市場。

2022年一季度和2021年中國成為ASML最大的出口市場，為ASML貢獻了三分之一的收入，不過在美國的要求下，ASML可以對中國出口的光刻機不斷減少，到今年一季度中國為ASML貢獻的收入占比只有8%。

日本的光刻機在面對全球三大光刻機采購企業(yè)Intel、臺積電和三星并無太大競爭力，畢竟這些芯片企業(yè)都已推進至10納米以下，對日本的光刻機需求已不大，去年由于ASML被限制對中國出口光刻機，日本的光刻機一度大舉對中國出口而迎來短時榮光，但是隨后在美國的影響下日本對中國的光刻機出口大跌。

當(dāng)時荷蘭和日本認為中國不可能短時間內(nèi)研發(fā)出先進光刻機，這個市場遲早還是他們的，然而近期中國一家手機企業(yè)發(fā)布的5G手機采用了國產(chǎn)芯片先進工藝，意味著國產(chǎn)的光刻機、芯片設(shè)備和材料都達到了較先進的水平，這對于日本的打擊甚大，日本的芯片設(shè)備更加沒有競爭優(yōu)勢了，而ASML更為清醒，迅速表示可以對中國出口更先進的2000i光刻機。

如今ICInsight指中國的芯片設(shè)備自給率已提升至40%，比兩年前的20%提升一倍，證明了中國確實以國產(chǎn)的先進光刻機以及芯片設(shè)備和材料替代進口，這對日本和荷蘭的芯片設(shè)備和材料產(chǎn)業(yè)無疑是又一記重擊，他們很可能因此失去中國市場。

西方曾以為他們掌握著先進的芯片設(shè)備和材料，因此可以拿捏中國芯片產(chǎn)業(yè)，然而事實證明這些技術(shù)并非不可突破，中國擁有更多的技術(shù)工程師，中國的人才在芯片技術(shù)研發(fā)方面也更有天賦，他們的做法激發(fā)了中國芯片行業(yè)的潛力，2年時間將太多不可能突破的芯片技術(shù)變成現(xiàn)實，他們不僅會失去一個大市場，還將迎來一個強大的競爭對手，或許他們腸子都悔青了吧？

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