8月26日消息(樂思)在今日召開的“2020世界半導(dǎo)體大會暨南京國際半導(dǎo)體博覽會”上,臺積電(南京)有限公司總經(jīng)理羅鎮(zhèn)球透露,臺積電的5nm芯片已進(jìn)入量產(chǎn)階段 預(yù)計(jì)可能在明年批量生產(chǎn)4nm。
羅鎮(zhèn)球稱,在十年前,臺積電每一年研發(fā)的資金投入大概在10億美金左右,但臺積電在今年全年的研發(fā)投入已經(jīng)超過30億美金,主要用在了芯片領(lǐng)域。
他透露,臺積電的技術(shù)正持續(xù)不斷地往前推進(jìn),7nm芯片進(jìn)入第三年的量產(chǎn)期,臺積電的7nm芯片到目前為止已經(jīng)支持140個以上的產(chǎn)品批量生產(chǎn),預(yù)計(jì)這個數(shù)字在今年年底之前將超過200。
“除了7nm之外,臺積電還做了N7+(7nm的強(qiáng)小化)以及6nm。臺積電把6nm和7nm當(dāng)做同一個節(jié)點(diǎn),產(chǎn)出量非常高。到目前為止,臺積電已經(jīng)為全世界提供了超過10億顆芯片。應(yīng)用領(lǐng)域包括CPU、GPU、通訊領(lǐng)域以及AI領(lǐng)域。”
臺積電采取小步快走的研發(fā)模式。目前,5nm芯片已經(jīng)進(jìn)入批量生產(chǎn)階段,4nm芯片也在路上。羅鎮(zhèn)球透露:“預(yù)計(jì)可能在明年就會開始正式批量生產(chǎn)4nm。”
據(jù)介紹,在產(chǎn)品良率上,臺積電的7nm芯片在一開始生產(chǎn)階段就在0.1%左右,逐步往前推的過程中,7,7+N,N6的良率達(dá)到了相同水平。而5nm在開始生產(chǎn)之時(shí),其良率推進(jìn)就遠(yuǎn)遠(yuǎn)好于三年前的7nm。未來,臺積電會在功耗、性能、面積上持續(xù)不斷提升。4nm是臺積電在面積和功耗上持續(xù)不斷提升的5nm節(jié)點(diǎn)的下一代的工藝。它不僅可以把晶片面積做得更小,在功耗上、成本上都可以讓客戶擁有更好的競爭力。
羅鎮(zhèn)球表坦言,半導(dǎo)體的先進(jìn)工藝要持續(xù)推進(jìn),其中特殊工藝尤為重要,因?yàn)樗闪艘粋€系統(tǒng)每一環(huán)節(jié)都需要的技術(shù)。而臺積電在這兩個領(lǐng)域都有著很好的發(fā)展,同時(shí)臺積電還在不斷創(chuàng)新,比如用封裝的方式把芯片集成在一顆封裝里面使其變成一個系統(tǒng)。
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