科技企業(yè)高管說了實(shí)話，能搞定7納米已很了不起，5納米不容易！

某科技企業(yè)的高管在接受采訪的時(shí)候表示當(dāng)前能搞定7納米已是很了不起的成就，那些動(dòng)不動(dòng)就吹噓說突破5納米、3納米脫離了現(xiàn)實(shí)，這無疑是在當(dāng)下躁動(dòng)的社會(huì)中給予重錘，提醒各方不要過于狂妄自大。

該名高管表示我們芯片制造的技術(shù)與國際還有較大差距，婉轉(zhuǎn)地說出芯片制造工藝并不能單純靠人力來進(jìn)行技術(shù)突破，設(shè)備才是芯片制造的關(guān)鍵，沒有先進(jìn)的設(shè)備，先進(jìn)芯片制造工藝就無米下鍋。

在開發(fā)先進(jìn)芯片方面，應(yīng)該轉(zhuǎn)變思路，通過加強(qiáng)系統(tǒng)架構(gòu)、軟件算法和異構(gòu)計(jì)算的研究，可以在技術(shù)上找到補(bǔ)償，從而研發(fā)出高性能的芯片，在先進(jìn)芯片技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)中找到獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)和特色。

這揭示了芯片制造的事實(shí)，芯片是一種高精密的產(chǎn)品，早已脫離了人力掌控的范圍，需要借助多種先進(jìn)設(shè)備實(shí)現(xiàn)。在芯片設(shè)計(jì)階段，就已引入了現(xiàn)代化的芯片設(shè)計(jì)工具，高度密集的晶體管，完全不是人力畫圖能實(shí)現(xiàn)，需要借助計(jì)算機(jī)來進(jìn)行繪圖，然后交給芯片工廠的設(shè)備，芯片工廠的設(shè)備同樣需要依賴先進(jìn)的芯片工具來解釋圖紙然后生產(chǎn)芯片。

對(duì)于芯片制造來說，也早已超出了人力范圍，這幾十年芯片制造設(shè)備一直都在升級(jí)中，從早年的干式光刻機(jī)到浸潤式光刻機(jī)，再到如今的EUV光刻機(jī)，這些先進(jìn)的芯片設(shè)備實(shí)現(xiàn)了人力所未能達(dá)到的高度。

全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的是ASML，而全球能生產(chǎn)光刻機(jī)的企業(yè)也只有4家左右，日本兩家，中國一家，ASML是荷蘭的，而7納米以下的光刻機(jī)就只有ASML能生產(chǎn)，因?yàn)楣饪虣C(jī)是高度精密的儀器，即使強(qiáng)如ASML，也只能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)大約10%的部件，其他部件需要全球5000多家企業(yè)合作。

全球制造芯片技術(shù)最先進(jìn)的僅有三星和臺(tái)積電，美國的Intel曾是全球芯片制造技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)者，不過從2014年量產(chǎn)14納米之后，Intel就放緩了創(chuàng)新的步伐，而三星和臺(tái)積電則保持了1-2年升級(jí)一代芯片制造技術(shù)的步伐，從而超過了Intel，成為芯片制造技術(shù)的領(lǐng)導(dǎo)者。

臺(tái)積電又稍微領(lǐng)先三星一籌，不過強(qiáng)如臺(tái)積電以現(xiàn)有的DUV光刻機(jī)也只是做到7納米，隨后臺(tái)積電就引入EUV光刻機(jī)生產(chǎn)出7納米EUV工藝，而且證明了EUV光刻機(jī)生產(chǎn)的7納米工藝性能較DUV光刻機(jī)生產(chǎn)大幅提升了性能并降低了功耗。

臺(tái)積電尚且無法實(shí)現(xiàn)以DUV光刻機(jī)生產(chǎn)5納米，這里的專家卻不斷吹噓可以DUV光刻機(jī)生產(chǎn)5納米，甚至突破到3納米，如今某科技企業(yè)的高管也忍不住了指出這太荒謬，人力終究有極限，以現(xiàn)有的DUV光刻機(jī)生產(chǎn)5納米并不靠譜，7納米已很可能就是極限，在無法得到先進(jìn)的EUV光刻機(jī)之前，應(yīng)該考慮的是芯片架構(gòu)、軟件算法等方面來提升整體性能，而不是虛妄的吹噓以DUV光刻機(jī)生產(chǎn)5納米。

技術(shù)是靠腳踏實(shí)地的研究推進(jìn)的，絕不是靠吹噓實(shí)現(xiàn)的，浮躁無法實(shí)現(xiàn)先進(jìn)技術(shù)，某科技企業(yè)的高管無疑給這種浮躁淋了一盆冷水，讓各方好好反思一下吹牛的風(fēng)氣，思考下如何研發(fā)才是正確的方向，錯(cuò)誤的方向最終只會(huì)浪費(fèi)資源，無法實(shí)現(xiàn)先進(jìn)技術(shù)。

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